恭喜江蘇啟微半導體設備有限公司;至微半導體(上海)有限公司陳丁堃獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜江蘇啟微半導體設備有限公司;至微半導體(上海)有限公司申請的專利一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114420540B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111677803.7，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法是由陳丁堃;鄧信甫;丁立設計研發完成，并于2021-12-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種單片式晶圓清洗工藝中整體潔凈度的控制方法，氣體噴流管道向所述晶圓平臺提供旋轉噴流純凈氣體的過程包括：以增壓、減壓、增壓循環的方式向所述晶圓平臺提供旋轉噴流的純凈氣體；或和以靠近、遠離、靠近循環的方式向所述晶圓平臺提供旋轉噴流的純凈氣體；或和以熱風、冷風、熱風循環的方式向所述晶圓平臺提供旋轉噴流的純凈氣體。本發明中單片式晶圓清洗工藝中整體潔凈度的控制方法能夠選擇以增壓、減壓、增壓循環，靠近、遠離、靠近循環或是熱風、冷風、熱風循環中的至少一種方式對晶圓的表面以及晶圓平臺進行整體式清洗，從而控制單片式晶圓清洗工藝中的整體潔凈度；超臨界液態二氧化碳流體可以進一步地溶解殘留的有機物。
本發明授權一種單片式晶圓清洗裝置及其整體潔凈度的控制方法在權利要求書中公布了：1.一種單片式晶圓清洗工藝中整體潔凈度的控制方法，包括：在所述晶圓的清洗工程中，通過氣體噴流管道向所述晶圓平臺提供旋轉噴流的純凈氣體，并通過氣體排放管道向所述晶圓平臺提供負壓，以抽除氣體；其特征在于，所述氣體噴流管道向所述晶圓平臺提供旋轉噴流純凈氣體的過程包括：以增壓、減壓、增壓循環的方式向所述晶圓平臺提供旋轉噴流的純凈氣體；和以靠近、遠離、靠近循環的方式向所述晶圓平臺提供旋轉噴流的純凈氣體；和以熱風、冷風、熱風循環的方式向所述晶圓平臺提供旋轉噴流的純凈氣體。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人江蘇啟微半導體設備有限公司;至微半導體(上海)有限公司，其通訊地址為：226200 江蘇省南通市啟東經濟開發區林洋路2015號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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