東曹株式會(huì)社土田裕也獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉東曹株式會(huì)社申請(qǐng)的專利釔鑄錠以及使用其的濺射靶材獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115516127B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180030295.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/34；該發(fā)明授權(quán)釔鑄錠以及使用其的濺射靶材是由土田裕也;召田雅實(shí);原浩之;松永修設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-04-19向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本釔鑄錠以及使用其的濺射靶材在說明書摘要公布了：提供可獲得微粒產(chǎn)生少的釔濺射靶材和能夠得到釔濺射靶材的釔鑄錠；所述釔濺射靶材的耐等離子體性高且可得到能夠?qū)崿F(xiàn)高成膜速度的低電阻。一種釔鑄錠，其特征在于，以氟原子計(jì)的含量為10wt％以下，制成靶材時(shí)的濺射面的表面粗糙度為10nm以上且2μm以下，釔鑄錠內(nèi)的直徑100μm以上的孔隙數(shù)為0.1個(gè)cm2以下，相對(duì)密度為96％以上。
本發(fā)明授權(quán)釔鑄錠以及使用其的濺射靶材在權(quán)利要求書中公布了：1.一種釔鑄錠，其特征在于，以氟原子計(jì)的含量為0.05wt%以上且10wt%以下，制成靶材時(shí)的濺射面的表面粗糙度為10nm以上且2μm以下，釔鑄錠內(nèi)的直徑100μm以上的孔隙數(shù)為0.1個(gè)cm2以下，相對(duì)密度為96%以上。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東曹株式會(huì)社，其通訊地址為：日本山口縣；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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