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龍圖騰網(wǎng)恭喜武漢帝爾激光科技股份有限公司申請的專利圖案轉(zhuǎn)印片、監(jiān)測圖案轉(zhuǎn)印的方法和圖案轉(zhuǎn)印系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115610127B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111034191.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B41M5/00；該發(fā)明授權(quán)圖案轉(zhuǎn)印片、監(jiān)測圖案轉(zhuǎn)印的方法和圖案轉(zhuǎn)印系統(tǒng)是由阿米爾·諾伊;本尼·納韋;埃亞爾·科恩;瓦萊里·索林;多爾·德羅爾設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-09-03向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本圖案轉(zhuǎn)印片、監(jiān)測圖案轉(zhuǎn)印的方法和圖案轉(zhuǎn)印系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了圖案轉(zhuǎn)印片、監(jiān)測圖案轉(zhuǎn)印的方法和圖案轉(zhuǎn)印系統(tǒng)，用于監(jiān)測和調(diào)節(jié)用于將漿料圖案從轉(zhuǎn)印片上的溝槽轉(zhuǎn)移到襯底例如電路和或太陽能電池襯底上的激光照射。圖案轉(zhuǎn)印片在圖案的外部包括i跡線標(biāo)記，其配置為接收印刷漿料，與溝槽對準(zhǔn)并且比照射激光束的寬度寬，以檢測從跡線標(biāo)記內(nèi)釋放的漿料的未對準(zhǔn)，和或ii工作窗口標(biāo)記，其配置為接收印刷漿料，相對于指定溝槽以指定偏移量設(shè)置，不同的工作窗口標(biāo)記以不同的偏移量設(shè)置，以通過調(diào)節(jié)激光束的功率來校正有效工作窗口。

本發(fā)明授權(quán)圖案轉(zhuǎn)印片、監(jiān)測圖案轉(zhuǎn)印的方法和圖案轉(zhuǎn)印系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種圖案轉(zhuǎn)印片，包括：多個(gè)溝槽，以指定圖案布置，并且配置為接收印刷漿料并在由激光束照射時(shí)將所述印刷漿料從所述溝槽釋放到接收襯底上，其特征在于，所述圖案轉(zhuǎn)印片包括以下中的至少一者：（i）至少一個(gè)跡線標(biāo)記，位于所述指定圖案的外部并且配置為接收所述印刷漿料，其中，所述至少一個(gè)跡線標(biāo)記相對于所述多個(gè)溝槽中的至少一個(gè)溝槽對準(zhǔn)，并且比所述激光束的寬度寬；以及（ii）多個(gè)工作窗口標(biāo)記，所述工作窗口標(biāo)記位于所述指定圖案的外部并配置為接收所述印刷漿料，其中，所述工作窗口標(biāo)記相對于所述指定圖案的指定溝槽以指定偏移量設(shè)置，并且其中，不同的工作窗口標(biāo)記以不同的偏移量設(shè)置。

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