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恭喜上海飚輝科技有限公司魯禮建獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜上海飚輝科技有限公司申請的專利吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113490404B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110890062.4,技術領域涉及:H05K9/00;該發明授權吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置是由魯禮建設計研發完成,并于2021-08-04向國家知識產權局提交的專利申請。

吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置在說明書摘要公布了:本發明公開了吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置,屬于新風凈化技術領域。它包括安裝主體和負離子裝置,還包括保護膜、屏蔽金屬圈和導電部;負離子裝置設置在安裝主體上,保護膜套設在負離子裝置上,且保護膜與安裝主體緊貼設置,保護膜與安裝主體之間呈空氣隔絕狀態;屏蔽金屬圈嵌設在保護膜的內側壁,且屏蔽金屬圈環繞設置在負離子裝置上。本發明在負離子發射頭周圍設置保護膜,使得安裝主體與流動的空氣隔絕,同時保護膜內的屏蔽金屬圈改變了負離子發射頭形成的電暈輻射場,在安裝主體層面形成一個截斷作用,從而最大限度的阻止強電場去聚集空氣中的超細顆粒物,防止黑墻現象發生。

本發明授權吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置在權利要求書中公布了:1.吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置,包括安裝主體(1)和負離子裝置(2),其特征在于:還包括保護膜(3)、屏蔽金屬圈(4)和導電部;所述負離子裝置(2)設置在安裝主體(1)上,所述保護膜(3)套設在負離子裝置(2)上,且所述保護膜(3)與安裝主體(1)緊貼設置,所述保護膜(3)與安裝主體(1)之間呈空氣隔絕狀態;所述屏蔽金屬圈(4)嵌設在保護膜(3)的內側壁,且所述屏蔽金屬圈(4)環繞設置在負離子裝置(2)上,所述屏蔽金屬圈(4)的最下沿位置高度低于負離子裝置(2)的發射頭高度;所述屏蔽金屬圈(4)與多個導電部連接,多個所述導電部均勻分布在保護膜(3)的外邊緣處,用于降低自身的電勢電壓形成的電暈二次發散效應。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人上海飚輝科技有限公司,其通訊地址為:201901 上海市寶山區泰和路2038號二幢111室;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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