南昌大學王啟勝獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉南昌大學申請的專利一種紅外光電憶阻器及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119997804B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510459906.8，技術領域涉及：H10N70/20；該發明授權一種紅外光電憶阻器及其制備方法是由王啟勝;李云東;冷康敏設計研發完成，并于2025-04-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種紅外光電憶阻器及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明涉及光電探測技術領域，尤其是涉及一種紅外光電憶阻器及其制備方法。包括選取鈦酸鍶基片進行第一硒化鉛膜生長以得到含第一硒化鉛膜的鈦酸鍶基片；對第一硒化鉛膜進行光刻刻蝕、敏化處理以得到含第二硒化鉛膜的預成品，在其制備電極以得到紅外光電憶阻器。基于本發明的制備方法和紅外光電憶阻器，可實現紅外光電憶阻器的組合陣列，拓展性強。本發明的紅外光電憶阻器具有較廣的光譜響應范圍，可響應光譜范圍覆蓋可見光波段、短波紅外、中波紅外。此外本發明還具有低功耗節能特點，在源漏極通入電壓脈沖即可改變器件的電導狀態。本發明可調電導狀態數量多。
本發明授權一種紅外光電憶阻器及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種紅外光電憶阻器制備方法，其特征在于，包括：選取鈦酸鍶基片進行第一硒化鉛膜生長以得到含第一硒化鉛膜的鈦酸鍶基片；對所述第一硒化鉛膜進行光刻刻蝕以得到預成品；定義敏化區域，選取所述第一硒化鉛膜任一端部的第一區域作為敏化區域；對敏化區域進行敏化處理以得到含第二硒化鉛膜的預成品，所述敏化處理包括光刻顯影和通入氧等離子體，具體為：在所述第一區域涂上光刻膠后進行光刻顯影以得到敏化區域的預成品；將所述預成品放入刻蝕機中依照第一預設條件通入氧等離子體以完成敏化處理過程，其中所述第一預設條件包括：刻蝕機輸出功率為75W，通氧等離子體處理時長為600s；根據所述含第二硒化鉛膜的預成品制備電極以得到紅外光電憶阻器。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人南昌大學，其通訊地址為：330000 江西省南昌市紅谷灘區學府大道999號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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