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龍圖騰網獲悉溫州職業技術學院申請的專利用于激光金屬雕刻的功率自適應控制方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119910316B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510417456.6，技術領域涉及：B23K26/362；該發明授權用于激光金屬雕刻的功率自適應控制方法及系統是由張亮;戴乃昌;徐浩浩;魯孟澤;翁翔;陳禮杭;朱煊設計研發完成，并于2025-04-03向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于激光金屬雕刻的功率自適應控制方法及系統在說明書摘要公布了：本發明公開了用于激光金屬雕刻的功率自適應控制方法及系統，涉及激光加工相關領域，該方法包括：獲取光刻需求與光刻目標特性，進行需求剖解，確定光刻幾何圖譜，其中，光刻幾何圖譜標識有調頻節點，光刻需求為2D刻蝕或3D刻蝕；獲取光刻機的集成光柵結構，針對光刻幾何圖譜，引入光刻調控器進行基于調頻節點的兩階調節決策，確定光刻策略，其中，兩階調節包括一階合束調節與二階整形調節；光刻策略響應于光刻機，輔助光刻坐標系，對光刻目標的激光雕刻進程進行自適應定位與調頻管理。解決了現有用于激光金屬雕刻的功率控制存在的精度不足、效率低下的技術問題，達到了提高功率控制精度和效率的技術效果。

本發明授權用于激光金屬雕刻的功率自適應控制方法及系統在權利要求書中公布了：1.用于激光金屬雕刻的功率自適應控制方法，其特征在于，所述方法包括：獲取光刻需求與光刻目標特性，進行需求剖解，確定光刻幾何圖譜，其中，所述光刻幾何圖譜標識有調頻節點，所述光刻需求為2D刻蝕或3D刻蝕；獲取光刻機的集成光柵結構，針對所述光刻幾何圖譜，引入光刻調控器進行基于調頻節點的兩階調節決策，確定光刻策略，其中，兩階調節包括一階合束調節與二階整形調節；所述光刻策略響應于光刻機，輔助光刻坐標系，對光刻目標的激光雕刻進程進行自適應定位與調頻管理；所述進行需求剖解，確定光刻幾何圖譜，包括：識別所述光刻需求，轉換為光刻全周期下基于光刻軌跡的序列需求，其中，所述序列需求標識有光刻空間角、光刻能效；讀取光刻機的光刻模式，以所述光刻目標特性為約束，對所述序列需求進行調頻節點確定，生成所述光刻幾何圖譜，其中，所述光刻目標特性至少包含金屬材料特性；所述光刻模式為單軌光刻模式或多軌協同模式；識別所述光刻軌跡，若所述光刻模式為多軌協同模式，對所述光刻軌跡進行光刻分軌，確定模式分軌結果；針對所述模式分軌結果，通過識別所述序列需求，進行需求趨變定位，標識所述調頻節點；所述進行需求趨變定位，標識所述調頻節點，包括：設定第一需求變量閾值與第二需求變量閾值，其中，第一需求變量閾值大于所述第二需求變量閾值；通過進行軌跡趨變識別，若大于所述第一需求變量閾值，標識為一類調頻節點；若大于所述第二需求變量閾值，且小于等于所述第一需求變量閾值，標識為二類調頻節點；其中，所述一類調頻節點執行一階合束調節與二階整形調節，所述二類調頻節點執行二階整形調節。

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