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龍圖騰網獲悉中國人民解放軍國防科技大學申請的專利一種自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119876906B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510369397.X，技術領域涉及：C23C16/44；該發明授權一種自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法是由房素素;姚金龍;王丹陽;王珊珊設計研發完成，并于2025-03-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法在說明書摘要公布了：本發明屬于二維材料制備領域，具體涉及到一種自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法，自動化CVD連續制備二維材料裝置包括反應爐、瓷舟組件、直線移動機構、物料存放裝置和上下料機構；本發明所提供的自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法，徹底摒棄傳統手工雙邊上樣、螺栓固定的繁瑣流程，創新性地采用單邊自動化進樣，通過設計多種零件的協同配合，成功實現瓷舟組件進樣后即刻密封的效果，簡化流程且大幅提高工作效率。此外，通過設計上下料機構，有效克服因上料盤表面不平整因素導致的上樣失敗問題，實現上下料自適應糾偏，進而實現整個制備流程的自動化進行，最終實現24小時的連續自動化實驗。

本發明授權一種自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法在權利要求書中公布了：1.一種自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法，其特征是，使用自動化CVD裝置連續制備二維材料，所述自動化CVD裝置包括反應爐（1）、瓷舟組件（2）、直線移動機構（3）、物料存放裝置（4）和上下料機構（5）；所述反應爐（1）包括用于進行氣相沉積的爐體（11），所述爐體（11）的一側設置有物料進出口（133）；所述瓷舟組件（2）包括依次設置的瓷舟（21）和瓷舟桿（22），所述瓷舟桿（22）設置在所述直線移動機構（3）輸出端，所述直線移動機構（3）用于驅動所述瓷舟組件（2）通過所述物料進出口（133）進入爐體（11）；在所述瓷舟組件（2）進入爐體（11）時，所述瓷舟桿（22）與所述物料進出口（133）通過瓷舟桿（22）上的密封圈（221）配合完成密封；所述物料存放裝置（4）存放用于氣相沉積的襯底和用于存放前驅體的坩堝；所述上下料機構（5）用于將所述物料存放裝置（4）上的襯底和坩堝轉移至所述瓷舟（21）上進行氣相沉積，所述上下料機構（5）還用于將所述瓷舟（21）上已經完成氣相沉積的襯底和坩堝轉移至下一工位；所述自動化CVD裝置連續制備二維材料的方法為使用所述自動化CVD裝置進行連續的自動化實驗；所述反應爐（1）包括爐體（11）和放置在爐體（11）內的爐管（12）；所述爐體（11）一端設置有連接法蘭（13），所述連接法蘭（13）上設置有進出氣腔（131），所述進出氣腔（131）的一端設置有連通所述爐體（11）內的進出氣孔Ⅰ（132），另一端設置有物料進出口（133），所述進出氣腔（131）上還設置有連通爐體（11）外的進出氣孔Ⅱ（134）；所述爐管（12）內部中空兩端開口，其中一端開口連通所述爐體（11）外部用于出進氣，另一端開口抵接在所述進出氣孔Ⅰ（132）背離所述進出氣腔（131）一端；所述瓷舟組件（2）的一端可依次通過所述物料進出口（133）、進出氣孔Ⅰ（132）伸入所述爐管（12）內，所述瓷舟桿（22）外壁與所述進出氣孔Ⅰ（132）之間具有進出氣間隔（135），所述瓷舟桿（22）與所述物料進出口（133）通過瓷舟桿（22）上的密封圈（221）配合完成密封；所述進出氣腔（131）包括側圍Ⅰ（1311）、設置在側圍Ⅰ（1311）一端的固定側壁Ⅰ（1312）和滑動設置在側圍Ⅰ（1311）內的滑動側壁Ⅰ（1313）；所述進出氣孔Ⅰ（132）設置在所述滑動側壁Ⅰ（1313）上；所述物料進出口（133）設置在所述固定側壁Ⅰ（1312）上；所述進出氣孔Ⅱ（134）設置在側圍Ⅰ（1311）或固定側壁Ⅰ（1312）上；所述滑動側壁Ⅰ（1313）和固定側壁Ⅰ（1312）之間還設置有彈簧Ⅰ（1314），所述彈簧Ⅰ（1314）推動所述滑動側壁Ⅰ（1313）與所述爐管（12）開口抵接。

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