臺灣積體電路制造股份有限公司張世明獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉臺灣積體電路制造股份有限公司申請的專利利用有利區域和不利區域的幾何掩模規則檢查獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115113477B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210336721.4，技術領域涉及：G03F1/84；該發明授權利用有利區域和不利區域的幾何掩模規則檢查是由張世明;游信勝;余瑞晉;吳秉杰設計研發完成，并于2022-04-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本利用有利區域和不利區域的幾何掩模規則檢查在說明書摘要公布了：本公開總體涉及利用有利區域和不利區域的幾何掩模規則檢查。一種方法包括：根據多個目標圖案來生成衍射圖；根據衍射圖來生成有利區域和不利區域；在有利區域中放置多個亞分辨率圖案；以及對多個亞分辨率圖案執行多個幾何操作，以生成經修改的亞分辨率圖案。經修改的亞分辨率圖案延伸到有利區域并且遠離不利區域。
本發明授權利用有利區域和不利區域的幾何掩模規則檢查在權利要求書中公布了：1.一種形成亞分辨率輔助特征的方法，包括：根據目標圖案來生成衍射圖，其中，所述衍射圖包括亮圖案和暗圖案；根據所述亮圖案和所述暗圖案來生成有利區域和不利區域；在所述有利區域中放置第一多個亞分辨率圖案；對所述第一多個亞分辨率圖案執行符合掩模規則的操作，以生成第二多個亞分辨率圖案，其中，所述第一多個亞分辨率圖案中的第一組亞分辨率圖案被放大；執行不利區域檢查工藝以發現不利圖案，其中，所述不利圖案是延伸到所述不利區域中的經放大第一組亞分辨率圖案；以及對所述第二多個亞分辨率圖案執行幾何操作，以生成第三多個亞分辨率圖案，其中，所述不利圖案與所述不利區域分隔開。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人臺灣積體電路制造股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新竹市；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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