華為技術有限公司姚羽獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華為技術有限公司申請的專利天線結構、天線模組、芯片與電子設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118039617B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311516658.3，技術領域涉及：H01L23/66；該發明授權天線結構、天線模組、芯片與電子設備是由姚羽;吳有全;侯猛設計研發完成，并于2021-06-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本天線結構、天線模組、芯片與電子設備在說明書摘要公布了：本申請提供一種天線結構、天線模組、芯片以及電子設備，涉及天線技術領域。通過將第一導電件以及第二導電件在第二金屬層上分成兩個區域間隔設置，這樣，當天線單元處于工作狀態時，電流路徑包括接地層、第二導電件、第二金屬層的第二區域、第二金屬層的第一區域、第一導電件以及第一金屬層。由于電流可以在第二金屬層的第一區域和第二區域之間傳輸，電流路徑呈彎折設置。相較于在相同電流路徑的天線結構中，且天線結構的電流路徑為直線型時，本實施例的天線結構的剖面高度較低，天線結構可以有利于實現薄型化設置。
本發明授權天線結構、天線模組、芯片與電子設備在權利要求書中公布了：1.一種天線結構，包括接地層、饋電單元以及天線單元，其特征在于： 所述天線單元的數量為四個，四個所述天線單元呈2行2列間隔排布，四個所述天線單元分別為第一天線單元、第二天線單元、第三天線單元以及第四天線單元； 四個所述天線單元中的每一個包括第一金屬層、第二金屬層、第一導電件以及第二導電件，所述第一金屬層與所述接地層相對設置且彼此間隔，所述第二金屬層位于所述第一金屬層與所述接地層之間，且與所述第一金屬層與所述接地層均間隔設置，所述第二金屬層包括間隔設置的第一區域和第二區域，所述第一導電件連接于所述第一金屬層與所述第二金屬層的第一區域之間，所述第二導電件連接于所述接地層與所述第二金屬層的第二區域之間； 所述饋電單元包括饋電枝節，所述饋電枝節的一部分在所述第一金屬層所在平面的投影位于所述第一金屬層內，所述饋電枝節用于向所述第二金屬層和所述第一金屬層饋電。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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