悟勞茂材料公司李炳一獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉悟勞茂材料公司申請的專利OLED像素形成用掩模、掩模支撐模板及框架一體型掩模獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113725389B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202110500020.5，技術領域涉及：H10K71/16；該發(fā)明授權OLED像素形成用掩模、掩模支撐模板及框架一體型掩模是由李炳一;金奉辰設計研發(fā)完成，并于2021-05-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本OLED像素形成用掩模、掩模支撐模板及框架一體型掩模在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及OLED像素形成用掩模、掩模支撐模板及框架一體型掩模。根據本發(fā)明的掩模為形成有多個掩模圖案且用于形成OLED像素的掩模，掩模圖案包括上部的第一掩模圖案與下部的第二掩模圖案，第一掩模圖案的厚度大于第二掩模圖案的厚度，第一掩模圖案的兩側面具有凹狀的曲率，第一掩模圖案的上部寬度大于第二掩模圖案的下部寬度，第一掩模圖案的下部寬度小于第二掩模圖案的下部寬度。
本發(fā)明授權OLED像素形成用掩模、掩模支撐模板及框架一體型掩模在權利要求書中公布了：1.一種掩模支撐模板，用于支撐OLED像素形成用掩模，該掩模支撐模板包括： 模板； 臨時粘合部，其形成在模板上；以及 掩模，其通過夾設臨時粘合部粘合在模板上且形成有多個掩模圖案， 其中，臨時粘合部上還形成有隔板絕緣部，掩模通過夾設臨時粘合部和隔板絕緣部粘合在模板的上部面， 掩模圖案包括上部的第一掩模圖案與下部的第二掩模圖案，第一掩模圖案的厚度大于第二掩模圖案的厚度，第一掩模圖案的上部寬度大于第二掩模圖案的下部寬度，第一掩模圖案的下部寬度小于第二掩模圖案的下部寬度， 第一掩模圖案的兩側面具有凹狀的曲率，第二掩模圖案的兩側面具有凸狀的曲率， 第一掩模圖案和第二掩模圖案利用濕蝕刻形成，對第二掩模圖案進行濕蝕刻時，蝕刻液在隔板絕緣部的露出部分沿著側面方向進行蝕刻，使第二掩模圖案的下部寬度大于上部寬度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人悟勞茂材料公司，其通訊地址為：韓國京畿道；或者聯(lián)系龍圖騰網官方客服，聯(lián)系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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