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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會社荏原制作所申請的專利鍍覆裝置以及氣泡除去方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115380133B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202180004264.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25D17/06；該發(fā)明授權(quán)鍍覆裝置以及氣泡除去方法是由辻一仁設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-03-10向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本鍍覆裝置以及氣泡除去方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及鍍覆裝置以及氣泡除去方法。本發(fā)明提供一種能夠?qū)粼陔娮梵w的氣泡除去的技術(shù)。鍍覆裝置1000具備：鍍覆槽10，存積鍍覆液Ps，并且在內(nèi)部配置有電阻體12；基板保持件30，配置于比電阻體靠上方的位置，并保持虛設(shè)基板Wfx；旋轉(zhuǎn)機構(gòu)40，使基板保持件旋轉(zhuǎn)；以及升降機構(gòu)50，使基板保持件升降，在虛設(shè)基板的下表面設(shè)置有從該下表面向下方突出的至少一個凸部60，基板保持件具有比虛設(shè)基板的下表面的外周緣向下方突出的環(huán)31，凸部的下表面位于比環(huán)的下表面靠下方，該鍍覆裝置構(gòu)成為在升降機構(gòu)使基板保持件下降而使虛設(shè)基板的凸部位于比電阻體靠上方的位置的狀態(tài)下且使虛設(shè)基板的凸部浸漬于鍍覆槽的鍍覆液的狀態(tài)下，旋轉(zhuǎn)機構(gòu)使基板保持件旋轉(zhuǎn)。

本發(fā)明授權(quán)鍍覆裝置以及氣泡除去方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種鍍覆裝置，其中，具備： 鍍覆槽，存積鍍覆液，并且在內(nèi)部配置有多孔質(zhì)的電阻體； 基板保持件，配置于比所述電阻體靠上方的位置，并保持虛設(shè)基板； 旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，使所述基板保持件旋轉(zhuǎn)；以及 升降機構(gòu)，使所述基板保持件升降， 在所述虛設(shè)基板的下表面設(shè)置有從該下表面向下方突出的至少一個凸部， 所述基板保持件具有比所述虛設(shè)基板的下表面的外周緣向下方突出的環(huán)， 所述凸部的下表面位于比所述環(huán)的下表面靠下方的位置， 所述鍍覆裝置構(gòu)成為在所述升降機構(gòu)使所述基板保持件下降而使所述虛設(shè)基板的所述凸部位于比所述電阻體靠上方的位置的狀態(tài)下且使所述凸部浸漬于所述鍍覆槽的鍍覆液的狀態(tài)下，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)使所述基板保持件旋轉(zhuǎn)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人株式會社荏原制作所，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。