恭喜西默有限公司E·A·梅森獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜西默有限公司申請的專利基于晶片的光源參數控制獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114755893B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210210593.9，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權基于晶片的光源參數控制是由E·A·梅森;O·祖里塔;G·A·瑞克斯泰納;W·E·康利設計研發完成，并于2017-10-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于晶片的光源參數控制在說明書摘要公布了：本公開涉及基于晶片的光源參數控制。例如，一種光刻方法包括從光源產生脈沖光束；使脈沖光束跨光刻曝光設備的襯底掃描以用脈沖光束曝光襯底，包括用脈沖光束曝光襯底的每個子區域。子區域是襯底的整個區域的一部分。對于襯底的每個子區域，接收與襯底的子區域相關聯的光刻性能參數；分析所接收的光刻性能參數，并且基于該分析，修改脈沖光束的第一光譜特征，并且保持脈沖光束的第二光譜特征。
本發明授權基于晶片的光源參數控制在權利要求書中公布了：1.一種裝置，包括： 光譜特征選擇系統，其與脈沖光束光學地交互； 測量系統，被配置為測量所述脈沖光束的一個或多個光譜特征； 量測裝置，被配置為確定襯底的每個子區域的至少一個光刻性能參數，其中子區域是所述襯底的整個區域的一部分，并且其中所述光刻性能參數是與所述襯底相關聯的、或者與和所述襯底交互的所述脈沖光束相關聯的特性；以及 控制系統，連接到所述光譜特征選擇系統、所述測量系統、和所述量測裝置，并被配置為對于每個襯底子區域： 從所述量測裝置接收經確定的光刻性能參數，并從所述測量系統接收所述脈沖光束的經測量的所述一個或多個光譜特征； 分析所述襯底的每個子區域的經確定的所述光刻性能參數，并分析所述脈沖光束的經測量的所述一個或多個光譜特征；以及 基于這些分析： 向所述光譜特征選擇系統發送第一信號，以修改所述脈沖光束的第一光譜特征，其中所述第一光譜特征的修改考慮到經測量的所述一個或多個光譜特征的分析，并且其中所述第一信號是基于所述光刻性能參數位于可接受范圍之外的確定而被發送的；以及 通過在所述脈沖光束的所述第一光譜特征被修改時將第二信號發送到所述光譜特征選擇系統，將所述脈沖光束的第二光譜特征保持在所述第二光譜特征的值的范圍內。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人西默有限公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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