恭喜朗姆研究公司黎照健獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利用于增強鎢沉積填充的鎢的原子層蝕刻獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113380695B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110431456.3，技術領域涉及：H01L21/768；該發明授權用于增強鎢沉積填充的鎢的原子層蝕刻是由黎照健;克倫·雅各布斯·卡納里克;薩曼莎·坦;阿南德·查德拉什卡;泰赫-婷·蘇;楊文兵;邁克爾·伍德;邁克爾·達內克設計研發完成，并于2016-08-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于增強鎢沉積填充的鎢的原子層蝕刻在說明書摘要公布了：本發明涉及用于增強鎢沉積填充的鎢的原子層蝕刻。本發明提供了使用沉積?蝕刻?沉積工藝將鎢沉積到高深寬比的特征中的方法，該工藝整合了多種沉積技術與在蝕刻期間交替的表面改性的脈沖和去除的脈沖。
本發明授權用于增強鎢沉積填充的鎢的原子層蝕刻在權利要求書中公布了：1.一種制造半導體器件的方法，所述方法包括： 相對于特征的內部區域，通過以下操作優先蝕刻在襯底上的所述特征的開口處或附近的第一數量的金屬： i通過使所述特征暴露于含鹵素的氣體以形成所述第一數量的金屬的改性的表面，其中相對于所述特征的內部區域，優先改性在所述特征的開口處或附近的所述第一數量的金屬的表面； ii使所述改性的表面暴露于活化氣體以相對于所述特征的內部區域優先蝕刻所述特征的開口處或附近的所述第一數量的金屬以打開所述特征； iii在i和ii中的至少一種期間使用偏置功率對所述襯底施加偏置。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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