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龍圖騰網(wǎng)獲悉龍南鼎泰電子科技有限公司申請的專利控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)、方法和控制器獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119967718B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號(hào)為：202510443992.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05K3/06；該發(fā)明授權(quán)控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)、方法和控制器是由葛啟順;鄭洋洋;鄭雨停;王敬永設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-04-10向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)、方法和控制器在說明書摘要公布了：本公開涉及一種控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)、方法和控制器，屬于蝕刻退錫設(shè)備控制的技術(shù)領(lǐng)域，所述系統(tǒng)包括蝕刻退錫設(shè)備、控制器和圖像采集裝置，所述控制器分別與所述蝕刻退錫設(shè)備和所述圖像采集裝置通信連接，所述圖像采集裝置用于在物料進(jìn)入所述蝕刻退錫設(shè)備之前采集關(guān)于所述物料的圖像信息，所述蝕刻退錫設(shè)備配置蝕刻液管道和退錫液管道，所述蝕刻液管道用于對多個(gè)蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，所述退錫液管道用于對多個(gè)退錫區(qū)域噴灑退錫液。

本發(fā)明授權(quán)控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)、方法和控制器在權(quán)利要求書中公布了：1.一種控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括蝕刻退錫設(shè)備、控制器和圖像采集裝置，所述控制器分別與所述蝕刻退錫設(shè)備和所述圖像采集裝置通信連接，所述圖像采集裝置用于在物料進(jìn)入所述蝕刻退錫設(shè)備之前采集關(guān)于所述物料的圖像信息，所述蝕刻退錫設(shè)備配置蝕刻液管道和退錫液管道，所述蝕刻液管道用于對多個(gè)蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，所述退錫液管道用于對多個(gè)退錫區(qū)域噴灑退錫液；所述控制器被設(shè)置為：接收所述圖像采集裝置輸出的關(guān)于目標(biāo)物料的目標(biāo)圖像信息；通過預(yù)置的圖像庫，確定與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料匹配的目標(biāo)物料模型；根據(jù)所述目標(biāo)物料模型的物料特征與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料的對應(yīng)關(guān)系，確定所述目標(biāo)物料的位置信息；根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制所述蝕刻液管道對第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制所述退錫液管道對第一蝕刻區(qū)域噴灑退錫液；所述系統(tǒng)還包括位姿調(diào)節(jié)裝置，所述位姿調(diào)節(jié)裝置與所述控制器通信連接，所述位姿調(diào)節(jié)裝置用于調(diào)整所述物料位姿以實(shí)現(xiàn)所述物料與所述物料的前進(jìn)方向平行；所述控制器還被配置為：控制所述位姿調(diào)節(jié)裝置調(diào)整所述目標(biāo)物料位姿以實(shí)現(xiàn)所述目標(biāo)物料與所述物料的前進(jìn)方向平行；在接收到所述位姿調(diào)節(jié)裝置反饋的反作用力信號(hào)時(shí)，獲取所述位姿調(diào)節(jié)裝置的位置參數(shù)信息；根據(jù)所述位置參數(shù)信息，控制所述位姿調(diào)節(jié)裝置將所述目標(biāo)物料移動(dòng)至設(shè)定位置；其中，所述設(shè)定位置與所述蝕刻退錫設(shè)備的邊緣相關(guān)；所述控制器還被設(shè)置為：根據(jù)所述位置信息所反映的所述目標(biāo)物料的橫向區(qū)間和縱向區(qū)間，確定多個(gè)蝕刻區(qū)域和多個(gè)退錫區(qū)域中所述目標(biāo)物料經(jīng)過的第二蝕刻區(qū)域和第二退錫區(qū)域；根據(jù)所述物料特征所反映的目標(biāo)物料在所述第二蝕刻區(qū)域和所述第二退錫區(qū)域的處理面積，從所述第二蝕刻區(qū)域和所述第二退錫區(qū)域中，篩選出第一蝕刻區(qū)域和第一退錫區(qū)域。

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