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龍圖騰網(wǎng)獲悉鑫天虹(廈門)科技有限公司申請的專利電漿清潔裝置獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN114975052B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-07-04發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202110215858.X，技術領域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權電漿清潔裝置是由林俊成;鄭耀璇;沈祐德設計研發(fā)完成，并于2021-02-26向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本電漿清潔裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明是一種電漿清潔裝置，包括腔體、射頻電極、載臺、電極、氣體分散環(huán)與分隔環(huán)。所述氣體分散環(huán)透過鎖固件連接腔體，而分隔環(huán)低于氣體分散環(huán)，其中分隔環(huán)與腔體圍繞出分隔空間，而鎖固件位于分隔空間。所述分隔環(huán)還與載臺界定出反應空間，而鎖固件被限制在反應空間之外。在電漿清潔裝置的清潔過程中，氬離子撞擊載臺上的鋁基板，而分隔環(huán)可遮蔽鎖固件以防止部分濺鍍出來的鋁吸附在鎖固件。

本發(fā)明授權電漿清潔裝置在權利要求書中公布了：1.一種電漿清潔裝置，其特征在于，所述電漿清潔裝置包括： 一腔體，具有容置空間與腔體頂部； 一射頻電極，連接所述腔體頂部； 一載臺，位于所述容置空間內，并用以承載至少一基板； 一電極，連接所述載臺； 氣體分散環(huán)，透過至少一鎖固件連接所述腔體，所述氣體分散環(huán)具有復數(shù)氣孔以供制程氣體通入所述容置空間，其中所述氣體分散環(huán)的表面受到粗化處理與非導電處理，使所述表面形成非平整面，以附著所述腔體的臟污；及 一分隔環(huán)，連接所述氣體分散環(huán)，其中所述分隔環(huán)與所述載臺界定出反應空間，而所述分隔環(huán)位于所述鎖固件與所述反應空間之間，以將所述鎖固件限制在所述反應空間之外，其中所述氣體分散環(huán)的所述氣孔位于所述反應空間； 其中所述分隔環(huán)還包括連接部、側面與底部，所述連接部連接所述氣體分散環(huán)，所述側面連接所述連接部，所述底部連接所述側面，而所述連接部與所述底部彼此相對，其中所述側面用以阻擋自所述鎖固件掉落的臟污掉落到所述基板的表面，而所述底部用以盛接所述臟污，其中所述底部的一端到所述腔體的側壁之間具有第一距離，而所述鎖固件到所述側壁之間具有第二距離，其中所述第一距離小于所述第二距離。

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