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龍圖騰網(wǎng)獲悉AMS有限公司申請(qǐng)的專利光電設(shè)備及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114521292B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-07-04發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080057069.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10F39/18；該發(fā)明授權(quán)光電設(shè)備及其制造方法是由帕特里克·佩特爾;格哈德·艾爾姆施泰納設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-07-21向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本光電設(shè)備及其制造方法在說明書摘要公布了：一種光電設(shè)備1，包括具有光敏結(jié)構(gòu)4的襯底2和在襯底2的主表面3上的介電層5，介電層5具有背離襯底2的頂部表面6。至少一個(gè)布線層7布置在介電層5中的一些位置，并且至少一個(gè)接觸區(qū)9由至少一個(gè)布線層7的一部分形成。開口11形成在介電層5的頂部表面6處，開口11朝向接觸區(qū)9延伸。光學(xué)元件12布置在光敏結(jié)構(gòu)4上方、介質(zhì)層5的頂部表面6上，并且光學(xué)濾波器13布置在介電層5的頂部表面6上，光學(xué)濾波器13是導(dǎo)電的、覆蓋光學(xué)元件12的一部分并且與接觸區(qū)9電接觸。此外，提供了一種用于制造光電設(shè)備1的方法。

本發(fā)明授權(quán)光電設(shè)備及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光電設(shè)備1，包括： -襯底2，其具有光敏結(jié)構(gòu)4， -介電層5，其在所述襯底2的主表面3上，所述介電層5具有背離所述襯底2的頂部表面6， -至少一個(gè)布線層7，其布置在所述介電層5中， -至少一個(gè)接觸區(qū)9，其由所述至少一個(gè)布線層7的一部分形成， -開口11，其在所述介電層5中、所述頂部表面6處，所述開口11朝向所述接觸區(qū)9延伸， -光學(xué)元件12，其布置在所述介電層5的頂部表面6上、所述光敏結(jié)構(gòu)4上方， -光學(xué)濾波器13，其布置在所述介電層5的頂部表面6上，所述光學(xué)濾波器13是導(dǎo)電的、覆蓋所述光學(xué)元件12的一部分并且與所述接觸區(qū)9電接觸，以及 -間隔結(jié)構(gòu)20，所述間隔結(jié)構(gòu)20覆蓋所述介電層5的頂部表面6處的開口11的底部部分14、側(cè)壁15和邊緣16，并且將所述接觸區(qū)9電連接至所述光學(xué)濾波器13。

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