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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)申請(qǐng)的專利基板處理裝置以及基板處理方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114078726B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202110948078.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)基板處理裝置以及基板處理方法是由高橋朋宏;岸田拓也;折坂昌幸設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-08-18向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基板處理裝置以及基板處理方法在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明能夠抑制不均勻地向在貯存于處理槽中的處理液中浸漬的基板供給處理液以提高處理品質(zhì)。具有：抑制部，在由基板保持部保持的基板與處理液噴出部之間，遮擋從處理液噴出部噴出并且朝向基板的處理液的液流的至少一部分，來(lái)抑制從處理液噴出部向基板直接供給處理液；處理液噴出部，設(shè)置于由基板保持部保持的基板的下方側(cè)，從處理液噴出口朝向貯存空間的內(nèi)底面噴出處理液；以及氣泡供給部，設(shè)置于由基板保持部保持的基板的下方側(cè)且處理液噴出口的上方側(cè)，向貯存于貯存空間的處理液供給氣泡。在鉛垂方向上的氣泡供給部與處理液噴出口之間，將經(jīng)由貯存空間的內(nèi)底面向上方流動(dòng)的處理液的至少一部即分流對(duì)象液的液流分流成多個(gè)上升流，向基板引導(dǎo)。

本發(fā)明授權(quán)基板處理裝置以及基板處理方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其特征在于，具有： 處理槽，具有貯存處理液的貯存空間，通過(guò)在貯存于所述貯存空間的所述處理液中浸漬基板來(lái)處理所述基板； 基板保持部，在所述貯存空間內(nèi)將所述基板保持為立起姿勢(shì)； 處理液噴出部，具有從由所述基板保持部保持的所述基板的下方側(cè)朝向所述基板開(kāi)口的噴出口，并從所述噴出口朝向所述基板噴出所述處理液；以及 抑制部，在由所述基板保持部保持的所述基板與所述處理液噴出部的所述噴出口之間，遮擋從所述處理液噴出部噴出并朝向所述基板的所述處理液的液流的至少一部分，從而抑制從所述處理液噴出部向所述基板直接供給所述處理液， 在將所述基板的面法線朝向第一方向的狀態(tài)下，所述基板保持部使多個(gè)所述基板在所述第一方向上排列并保持， 所述處理液噴出部沿所述第一方向延伸設(shè)置， 所述抑制部具有與所述處理液噴出部的所述噴出口對(duì)置并沿所述第一方向延伸設(shè)置的噴出對(duì)置面，從所述處理液噴出部噴出的所述處理液被所述噴出對(duì)置面遮擋。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)，其通訊地址為：日本京都府；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。