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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會社新川申請的專利半導體裝置的制造裝置以及基板的清掃方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115152004B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202180004176.2，技術領域涉及：H01L21/304；該發(fā)明授權(quán)半導體裝置的制造裝置以及基板的清掃方法是由西尾秀次;土川陽平設計研發(fā)完成，并于2021-01-28向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本半導體裝置的制造裝置以及基板的清掃方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種半導體裝置的制造裝置以及基板的清掃方法，可更有效地清掃安裝芯片之前的基板的背面。半導體裝置的制造裝置10的特征在于包括：搬送機構(gòu)16，將在表面安裝芯片的基板100以其表面朝向重力方向上側(cè)的姿勢而搬送至規(guī)定的搬送方向下游側(cè)；一個以上的輥刷30U、30D，設于所述基板100的搬送路徑中途且較所述基板100的搬送高度為下側(cè)，一邊接觸至所述基板100的背面104，一邊繞相對于所述搬送方向而傾斜的軸旋轉(zhuǎn)，由此來清掃所述背面104；以及抽吸機構(gòu)50，經(jīng)由一個以上的抽吸孔54來抽吸被一個以上的所述輥刷30U、30D擦除的異物。

本發(fā)明授權(quán)半導體裝置的制造裝置以及基板的清掃方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導體裝置的制造裝置，其特征在于包括： 搬送機構(gòu)，將在表面安裝芯片的基板以其表面朝向重力方向上側(cè)的姿勢而搬送至規(guī)定的搬送方向下游側(cè)； 一個以上的輥刷，設于所述基板的搬送路徑中途且較所述基板的搬送高度為下側(cè)，一邊接觸至所述基板的背面，一邊繞相對于搬送方向而傾斜的軸旋轉(zhuǎn)，由此來清掃所述背面；以及 抽吸機構(gòu)，經(jīng)由一個以上的抽吸孔來抽吸被一個以上的所述輥刷擦除的異物， 其中所述基板的所述搬送方向的尺寸短于所述搬送路徑的長度， 所述搬送機構(gòu)使所述基板與一個以上的所述輥刷接觸的期間即清掃期間中的搬送速度小于除此以外的搬送期間中的搬送速度。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人株式會社新川，其通訊地址為：日本東京武藏村山市伊奈平二丁目51番地之1(郵遞區(qū)號:208-8585)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。