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龍圖騰網(wǎng)恭喜株式會社愛發(fā)科申請的專利吸附裝置以及真空處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113939903B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080040321.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/683；該發(fā)明授權(quán)吸附裝置以及真空處理裝置是由阪上弘敏;大野哲宏設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-06-04向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本吸附裝置以及真空處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種在使用冷卻用氣體冷卻基板的吸附裝置中防止冷卻用氣體的泄漏從而提高基板的冷卻效率的技術(shù)。在本發(fā)明中，升降構(gòu)件15構(gòu)成為在不支承基板10的狀態(tài)下，連結(jié)部15a配置在貫通孔52的引導(dǎo)部53內(nèi)，并且基板支承部15b配置在貫通引導(dǎo)孔52的收容部54內(nèi)。在升降構(gòu)件15的連結(jié)部15a與基板支承部15b之間設(shè)有O形環(huán)17，通過與設(shè)置在貫通引導(dǎo)孔52的收容部54的支承壁部55密合地支承該O型環(huán)而將貫通引導(dǎo)孔52的收容部54相對于引導(dǎo)部53密封。

本發(fā)明授權(quán)吸附裝置以及真空處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種吸附裝置，其具有： 主體部，其具有用于在電介質(zhì)中吸附保持基板的吸附電極，在吸附側(cè)的部分設(shè)有用氣體冷卻所述基板的冷卻用空間；以及 升降構(gòu)件，其經(jīng)由貫通引導(dǎo)孔支承所述基板并使其升降，所述貫通引導(dǎo)孔與所述主體部的冷卻用空間連通且貫通該主體部，其中， 所述升降構(gòu)件構(gòu)成為具有支承所述基板的基板支承部以及與該基板支承部連結(jié)并被驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動的連結(jié)部，并且，在不支承所述基板的狀態(tài)下，所述基板支承部配置在與所述貫通引導(dǎo)孔的所述冷卻用空間連通的收容部內(nèi)，并且所述連結(jié)部配置在與所述貫通引導(dǎo)孔的收容部連通的引導(dǎo)部內(nèi)， 在所述升降構(gòu)件的所述連結(jié)部與所述基板支承部之間設(shè)有密封構(gòu)件，通過與設(shè)置在所述貫通引導(dǎo)孔的收容部的支承壁部密合地支承所述密封構(gòu)件，從而將所述貫通引導(dǎo)孔的引導(dǎo)部相對于所述收容部密封， 在所述基板支承部的所述連結(jié)部側(cè)的部分設(shè)有密封定位部，在所述密封定位部的所述連結(jié)部側(cè)的部分設(shè)有直徑比所述連結(jié)部小的圓柱狀的槽部， 所述密封構(gòu)件設(shè)置在所述槽部，形成為具有比所述升降構(gòu)件的所述槽部的外徑些許小的內(nèi)徑，且具有比所述基板支承部的外徑小的外徑。

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