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五金工具產品及配附件制造技術
  • 本發明公開了一種通過過飽和技術氣相生長原子團簇的方法，包括以下步驟：對襯底進行表面處理；配置前驅體，調節氣體壓力和前驅體流量控制乙炔分解的碳原子濃度；通過梯度溫度設計、調控氣相環境的熱力學和前驅體濃度的參數，控制原子團簇成核并不斷長大，通過...
  • 本發明公開的一種鐵基表面磷酸化氮化碳涂層及其制備方法，屬于涂層防腐技術領域。首先將鐵基表面進行預處理；然后采用磷酸化液對預處理后的鐵基表面進行磷酸化處理，晾干；所述磷酸化液由磷酸、水、無水乙醇和亞鐵氰化鉀組成；最后在磷酸化處理后的鐵基表面上...
  • 本發明涉及一種基片磁控濺射鍍膜生產設備，包括機架、預真空單元、傳輸單元、預處理單元、磁控濺射工藝單元；四個單元集成安裝于機架上；預真空單元、預處理單元和磁控濺射工藝單元置于傳輸單元外部三個方位；傳輸單元通過三個基片出入口分別與預真空單元的基...
  • 本發明提供用于石油鉆井隨鉆測量儀器配件的耐沖蝕強化涂層方法，包括：步驟S1，對工件進行預處理，分析其規格型號、配件尺寸、使用環境和磨損機制；步驟S2，對工件進行探傷檢測；步驟S3，對工件表面進行清理，并通過噴砂處理增加表面粗糙度，直到工件表...
  • 本實用新型公開了一種基片臺以及鍍膜設備，其中，基片臺包括：安裝架和支撐平臺支撐臺，具有支撐面，支撐面用于支撐基片，支撐臺包括第一功能模塊，基片臺包括多個支撐臺，各支撐臺的第一功能模塊的類型不同，支撐臺可拆卸地連接于安裝架，各支撐臺能夠單獨連...
  • 一種基于波段自適應寬光譜膜層厚度監控的鍍膜方法，旨在提高光學薄膜的鍍膜質量和效率，通過逐層設計光學薄膜結構，并利用膜系設計軟件計算透過率光譜，以評估厚度變化對光學性能的影響；在鍍膜過程中，采用波段自適應監控技術，根據每層薄膜的特性和鍍膜機的...
  • 本發明涉及一種可以提高鍍鋅合金鋼板的耐蝕性和潤滑性等的表面處理溶液組合物、利用該表面處理溶液組合物進行表面處理的鍍覆鋼板以及所述鍍覆鋼板的制造方法。
  • 本發明涉及磷化處理技術，具體是一種軸承套圈的超薄超細化晶粒度磷化工藝，包括以下步驟：脫脂清洗；第一次熱水漂洗；第二次熱水漂洗；磷化處理；超聲波水漂洗；涂油；零件檢查。其中，軸承套圈磷化液酸度如下：總酸度為45~70點，游離酸度為7~12點，...
  • 本申請實施例提供一種金剛石膜的制備方法，包括以下步驟：加熱有機分子源并使得有機分子蒸發至反應腔；通過微波使得所述反應腔內的有機分子裂解形成碳氫自由基；和所述碳氫自由基沉積到高溫基底上成核，以生長形成金剛石膜。本申請實施例提供的金剛石膜的制備...
  • 本發明涉及鍍膜設備技術領域，提出了一種用于制造復合鋁箔集流體的蒸發鍍膜設備，包括支撐座，所述支撐座的中間安裝有外殼，所述外殼內安裝有電加熱管，所述電加熱管的上方設置有導熱板，所述支撐座上焊接有支撐桿，所述支撐桿的頂部焊接有第一連接板，所述第...
  • 本發明公開了一種基于三明治結構的耐液態鉛鉍腐蝕材料的篩選方法及其應用。所述三明治結構外層為目標成分薄膜，夾層為鉛鉍合金膜。篩選方法為：S1.制備三明治結構復合薄膜材料；S2.復合薄膜材料液態鉛鉍原位腐蝕；S3.腐蝕后的復合薄膜材料表征，根據...
  • 本文公開了與使用固體源化學填充容器的輸送系統相關的系統和方法。輸送系統可以包括氣相沉積反應器、兩個或更多個填充容器，其中一個或多個可以遠離氣相沉積反應器。每個填充容器配置為在其中容納固體源化學反應物。互連管線或導管可以將氣相沉積反應器與一個...
  • 本發明提供一種降低PECVD機臺金屬離子含量的方法，提供等離子體增強型化學氣相沉積機臺；在等離子體增強型化學氣相沉積機臺的工藝腔內壁以及工藝腔中各部件的表面，將腔體預沉積層的普通氧化層替換為具有拉伸應力的氧化層，具有拉伸應力的氧化層原子鍵的...
  • 本發明公開了一種增加模具使用壽命的鍍膜方法，包括如下步驟：1)清洗模具；2)干燥模具；3)采用磁控濺射的方法在模具表面制備DLC涂層。能夠有效的解決模具表面劃傷的問題也可以減少模具表面的氧化問題且能夠增加模具的使用壽命，大大的降低產品加工生...
  • 一種具有納米復合梯度結構的TiN耐磨涂層及其制備方法，本發明是要解決傳統TiN涂層存在結合強度不足、耐磨性欠佳等問題。制備方法：一、對基片超聲清洗；二、裝片；三、真空倉抽真空；四、等離子清洗；五、涂層預沉積；六、開啟多弧電源，分階段控制氬氣...
  • 本發明提供一種近常壓MPCVD系統及其應用，所述系統包括沉積模塊，沉積模塊包括諧振腔，諧振腔下端部中心設置有用于放置襯底的基臺，沉積模塊利用微波等離子體化學氣相沉積法在位于諧振腔內的襯底表面沉積薄膜，所述諧振腔自上至下包括相連接的第一聚集腔...
  • 本發明公開一種熱敏感材料的低溫原子層沉積設備及方法，涉及原子層沉積技術領域，以解決現有技術中高溫或低溫沉積方法均會導致產品的良品率低的問題。設備至少包括：原子層沉積反應腔室、等離子氣體反應腔室、第一氣體通道、第二氣體通道及微天平；等離子氣體...
  • 本發明公開了一種AMB基板的制備方法，具體制備步驟如下：將陶瓷基片置于超聲波清洗機中進行表面清潔處理，隨后將其裝載于磁控濺射設備的樣品臺上。采用磁控濺射工藝，依次沉積鈦（Ti）、銅（Cu）、銀（Ag）多層薄膜，各層厚度按預定比例精確控制。隨...
  • 本發明公開一種原子層沉積用熱阱，涉及薄膜沉積技術領域，以解決對過量的前驅體源吸附易導致真空泵抽速降低的問題。熱阱包括：連通部件為具有進口端和出口端的筒狀結構，筒狀結構內設有多個沿著筒狀結構的軸向交錯間隔排布的吸附件，相鄰兩個吸附件在與筒狀結...
  • 本發明公開了一種鍍鋅鋁合金用環保三價鉻鈍化液及其制備方法，包括以下質量分數的原料：聚乙烯醇：1%～5%、三氧化鉻：10%～14%、68%硝酸：1.5%～3.5%、亞磷酸：8.2%～12.5%、次磷酸：2.3%～3.5%，余量為純水；所述三氧...
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