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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
  • 本實(shí)用新型公開了一種基片臺以及鍍膜設(shè)備，其中，基片臺包括：安裝架和支撐平臺支撐臺，具有支撐面，支撐面用于支撐基片，支撐臺包括第一功能模塊，基片臺包括多個支撐臺，各支撐臺的第一功能模塊的類型不同，支撐臺可拆卸地連接于安裝架，各支撐臺能夠單獨(dú)連...
  • 一種基于波段自適應(yīng)寬光譜膜層厚度監(jiān)控的鍍膜方法，旨在提高光學(xué)薄膜的鍍膜質(zhì)量和效率，通過逐層設(shè)計(jì)光學(xué)薄膜結(jié)構(gòu)，并利用膜系設(shè)計(jì)軟件計(jì)算透過率光譜，以評估厚度變化對光學(xué)性能的影響；在鍍膜過程中，采用波段自適應(yīng)監(jiān)控技術(shù)，根據(jù)每層薄膜的特性和鍍膜機(jī)的...
  • 本發(fā)明涉及一種可以提高鍍鋅合金鋼板的耐蝕性和潤滑性等的表面處理溶液組合物、利用該表面處理溶液組合物進(jìn)行表面處理的鍍覆鋼板以及所述鍍覆鋼板的制造方法。
  • 本發(fā)明涉及磷化處理技術(shù)，具體是一種軸承套圈的超薄超細(xì)化晶粒度磷化工藝，包括以下步驟：脫脂清洗；第一次熱水漂洗；第二次熱水漂洗；磷化處理；超聲波水漂洗；涂油；零件檢查。其中，軸承套圈磷化液酸度如下：總酸度為45~70點(diǎn)，游離酸度為7~12點(diǎn)，...
  • 本申請實(shí)施例提供一種金剛石膜的制備方法，包括以下步驟：加熱有機(jī)分子源并使得有機(jī)分子蒸發(fā)至反應(yīng)腔；通過微波使得所述反應(yīng)腔內(nèi)的有機(jī)分子裂解形成碳?xì)渥杂苫缓退鎏細(xì)渥杂苫练e到高溫基底上成核，以生長形成金剛石膜。本申請實(shí)施例提供的金剛石膜的制備...
  • 本發(fā)明涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，提出了一種用于制造復(fù)合鋁箔集流體的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，包括支撐座，所述支撐座的中間安裝有外殼，所述外殼內(nèi)安裝有電加熱管，所述電加熱管的上方設(shè)置有導(dǎo)熱板，所述支撐座上焊接有支撐桿，所述支撐桿的頂部焊接有第一連接板，所述第...
  • 本發(fā)明公開了一種基于三明治結(jié)構(gòu)的耐液態(tài)鉛鉍腐蝕材料的篩選方法及其應(yīng)用。所述三明治結(jié)構(gòu)外層為目標(biāo)成分薄膜，夾層為鉛鉍合金膜。篩選方法為：S1.制備三明治結(jié)構(gòu)復(fù)合薄膜材料；S2.復(fù)合薄膜材料液態(tài)鉛鉍原位腐蝕；S3.腐蝕后的復(fù)合薄膜材料表征，根據(jù)...
  • 本文公開了與使用固體源化學(xué)填充容器的輸送系統(tǒng)相關(guān)的系統(tǒng)和方法。輸送系統(tǒng)可以包括氣相沉積反應(yīng)器、兩個或更多個填充容器，其中一個或多個可以遠(yuǎn)離氣相沉積反應(yīng)器。每個填充容器配置為在其中容納固體源化學(xué)反應(yīng)物。互連管線或?qū)Ч芸梢詫庀喑练e反應(yīng)器與一個...
  • 本發(fā)明提供一種降低PECVD機(jī)臺金屬離子含量的方法，提供等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積機(jī)臺；在等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積機(jī)臺的工藝腔內(nèi)壁以及工藝腔中各部件的表面，將腔體預(yù)沉積層的普通氧化層替換為具有拉伸應(yīng)力的氧化層，具有拉伸應(yīng)力的氧化層原子鍵的...
  • 本發(fā)明公開了一種增加模具使用壽命的鍍膜方法，包括如下步驟：1)清洗模具；2)干燥模具；3)采用磁控濺射的方法在模具表面制備DLC涂層。能夠有效的解決模具表面劃傷的問題也可以減少模具表面的氧化問題且能夠增加模具的使用壽命，大大的降低產(chǎn)品加工生...
  • 一種具有納米復(fù)合梯度結(jié)構(gòu)的TiN耐磨涂層及其制備方法，本發(fā)明是要解決傳統(tǒng)TiN涂層存在結(jié)合強(qiáng)度不足、耐磨性欠佳等問題。制備方法：一、對基片超聲清洗；二、裝片；三、真空倉抽真空；四、等離子清洗；五、涂層預(yù)沉積；六、開啟多弧電源，分階段控制氬氣...
  • 本發(fā)明提供一種近常壓MPCVD系統(tǒng)及其應(yīng)用，所述系統(tǒng)包括沉積模塊，沉積模塊包括諧振腔，諧振腔下端部中心設(shè)置有用于放置襯底的基臺，沉積模塊利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積法在位于諧振腔內(nèi)的襯底表面沉積薄膜，所述諧振腔自上至下包括相連接的第一聚集腔...
  • 本發(fā)明公開一種熱敏感材料的低溫原子層沉積設(shè)備及方法，涉及原子層沉積技術(shù)領(lǐng)域，以解決現(xiàn)有技術(shù)中高溫或低溫沉積方法均會導(dǎo)致產(chǎn)品的良品率低的問題。設(shè)備至少包括：原子層沉積反應(yīng)腔室、等離子氣體反應(yīng)腔室、第一氣體通道、第二氣體通道及微天平；等離子氣體...
  • 本發(fā)明公開了一種AMB基板的制備方法，具體制備步驟如下：將陶瓷基片置于超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行表面清潔處理，隨后將其裝載于磁控濺射設(shè)備的樣品臺上。采用磁控濺射工藝，依次沉積鈦（Ti）、銅（Cu）、銀（Ag）多層薄膜，各層厚度按預(yù)定比例精確控制。隨...
  • 本發(fā)明公開一種原子層沉積用熱阱，涉及薄膜沉積技術(shù)領(lǐng)域，以解決對過量的前驅(qū)體源吸附易導(dǎo)致真空泵抽速降低的問題。熱阱包括：連通部件為具有進(jìn)口端和出口端的筒狀結(jié)構(gòu)，筒狀結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有多個沿著筒狀結(jié)構(gòu)的軸向交錯間隔排布的吸附件，相鄰兩個吸附件在與筒狀結(jié)...
  • 本發(fā)明公開了一種鍍鋅鋁合金用環(huán)保三價(jià)鉻鈍化液及其制備方法，包括以下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的原料：聚乙烯醇：1%～5%、三氧化鉻：10%～14%、68%硝酸：1.5%～3.5%、亞磷酸：8.2%～12.5%、次磷酸：2.3%～3.5%，余量為純水；所述三氧...
  • 本發(fā)明公開了一種防污染的真空紫外離化鍍膜方法及裝置，包括如下步驟：在腔體內(nèi)安裝靶材和反射鏡柱，調(diào)整反射鏡柱與零件架之間狹縫擋板的狹縫大小；將腔體內(nèi)抽真空，打開紫外光源，通過特定光路導(dǎo)入真空鍍膜腔室，將鍍膜腔室中的氣相粒子光致電離成為離子，提...
  • 本發(fā)明公開了一種多功能真空鍍膜儀實(shí)驗(yàn)裝置，其包括用以放置真空系統(tǒng)的放置柜；放置柜的上表面設(shè)置有真空室組件；真空室組件包括由上至下的真空室上分段、真空室中分段和真空室下分段，且真空室上分段、真空室中分段和真空室下分段之間通過伸縮組件相連接；真...
  • 本申請公開了一種AlCrN涂層及其制備方法和刀具，制備方法包括如下工藝步驟：S1，清洗基體；S2，鍍膜腔室抽真空，加熱；S3，通入惰性氣體和氫氣，對基體表面清洗氫氣刻蝕；S4，停止通入氫氣，通入惰性氣體，對基體表面進(jìn)行側(cè)向離子刻蝕；S5，開...
  • 一種多譜段兼容防護(hù)納米熱控薄膜及其制備方法，它涉及一種熱控復(fù)合薄膜及其制備方法。本發(fā)明要解決現(xiàn)有航天用有機(jī)熱控膜近紫外反射率不夠高，在輻照環(huán)境中性能衰退和制備流程復(fù)雜的問題。多譜段兼容防護(hù)納米熱控薄膜，它自下而上依次由有機(jī)柔性基底及氧化物層...
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