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攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
  • 公開(kāi)了一種半導(dǎo)體光刻膠組合物和使用所述組合物形成圖案的方法，所述半導(dǎo)體光刻膠組合物包括：含Sn有機(jī)金屬化合物；由化學(xué)式1表示的羧酸化合物；以及溶劑。
  • 本發(fā)明提供一種處理盒，可拆卸地安裝到設(shè)置有電力部件的電子照相成像設(shè)備中，處理盒包括感光鼓、顯影輥以及用于向感光鼓充電的充電部件；處理盒還包括：電力供應(yīng)件，能夠與電力部件接觸以接收電力，電力供應(yīng)件能夠向顯影輥供應(yīng)電力；接地構(gòu)件，能夠在與顯影輥...
  • 公開(kāi)了一種半導(dǎo)體光刻膠組合物和使用組合物形成圖案的方法，半導(dǎo)體光刻膠組合物包括含Sn有機(jī)金屬化合物、由化學(xué)式1表示的羧酸化合物和溶劑。
  • 本實(shí)用新型公開(kāi)一種磁輥導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，包括輥體和邊蓋，所述輥體內(nèi)設(shè)置有磁芯，在所述邊蓋上設(shè)置有定位柱，所述定位柱插接在所述輥體內(nèi)，所述邊蓋上固定設(shè)置有導(dǎo)電片，所述導(dǎo)電片上設(shè)置有延伸片，所述延伸片延伸至所述輥體內(nèi)且與所述輥體內(nèi)壁貼合導(dǎo)電。本實(shí)用新型...
  • 本公開(kāi)提供一種掩模版及其制備方法，涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域和光刻技術(shù)領(lǐng)域，制備方法包括：在基底上形成依次層疊的掩模吸收層、硬掩蔽層以及光刻膠層；基于掩模版圖對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光及顯影，在光刻膠層中形成目標(biāo)圖形；以形成有目標(biāo)圖形的光刻膠層為掩蔽層...
  • 抗蝕劑的干式顯影可使用于例如在高分辨率圖案化中形成圖案化掩模。干式顯影可有利地通過(guò)半導(dǎo)體襯底的處理方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，該方法包括：在處理室中將已光圖案化的抗蝕劑提供至半導(dǎo)體襯底上的襯底層上；以及通過(guò)以下方式對(duì)所述已光圖案化的抗蝕劑進(jìn)行干式顯影：通過(guò)...
  • 本發(fā)明提供除電裝置以及介質(zhì)處理裝置。除電裝置具有：第1除電部件，與被搬送的介質(zhì)接觸；第2除電部件，在所述第2除電部件與所述第1除電部件之間夾持所述介質(zhì)；以及電源，對(duì)所述第1除電部件以及所述第2除電部件中的至少一方施加電壓，所述第1除電部件以...
  • 靜電圖像顯影用載體具有芯材、和包含無(wú)機(jī)顆粒并被覆上述芯材的被覆樹(shù)脂層，上述無(wú)機(jī)顆粒的含量相對(duì)于上述被覆樹(shù)脂層的總質(zhì)量為10質(zhì)量％以上60質(zhì)量％以下，上述無(wú)機(jī)顆粒的體積平均粒徑D(μm)與上述被覆樹(shù)脂層的厚度T(μm)滿足下述關(guān)系式(1)。關(guān)...
  • 本申請(qǐng)涉及圖像形成技術(shù)及其耗材領(lǐng)域，具體涉及一種芯片組件。所述芯片組件可拆卸地安裝于處理盒的芯片座上，所述芯片組件包括：芯片及支撐構(gòu)件，所述支撐構(gòu)件與所述芯片連接，使得芯片穩(wěn)定地安裝于所述芯片座上。本發(fā)明提供的芯片組件中，芯片無(wú)需通過(guò)其自身...
  • 本實(shí)用新型提供了一種低成本易組裝的碳粉盒，包括粉倉(cāng)主體以及配合于所述粉倉(cāng)主體輸出端的廢粉倉(cāng)主體，所述粉倉(cāng)主體的兩端設(shè)置有第一邊蓋模塊，所述廢粉倉(cāng)主體的兩端設(shè)置有第二邊蓋模塊所述第一邊蓋模塊設(shè)置有匹配斜面以及從所述匹配斜面向所述第二邊蓋模塊延...
  • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種硒鼓出粉刀，包括刀架、連接于刀架的刀片、設(shè)于刀架上的架接機(jī)構(gòu)以及定位機(jī)構(gòu)，刀架包括成角度設(shè)置的第一面板與第二面板，刀片貼合固定于第一面板的表面，定位機(jī)構(gòu)包括相對(duì)設(shè)于第一面板兩端的定位掛耳。本實(shí)用新型的硒鼓出粉刀，將刀架分...
  • 公開(kāi)了光圈模塊和包括光圈模塊的相機(jī)模塊，所述光圈模塊包括：基礎(chǔ)部，包括導(dǎo)向槽和突出的樞軸銷(xiāo)；葉片單元，包括多個(gè)葉片，該多個(gè)葉片樞轉(zhuǎn)以形成第一直徑光圈和第二直徑光圈；以及光圈驅(qū)動(dòng)器，包括沿著導(dǎo)向槽移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)銷(xiāo)。驅(qū)動(dòng)孔包括在形成第一直徑光圈時(shí)接...
  • 提供一種掩模版或掩模版坯料，所述掩模版或掩模版坯料包括低變形材料，其中，所述掩模版或所述掩模版坯料材料具有過(guò)零溫度（ZCT）分布和ZCT斜率輪廓，其中，所述ZCT分布和所述ZCT斜率輪廓中的至少一種為非均一的。也提供一種減輕掩模版或掩模版坯...
  • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種掩模圖形確定方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品，應(yīng)用于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。本方法中，刻蝕偏差由第一刻蝕圖形和第一光刻圖形確定，而第一刻蝕圖形基于第一子圖像和第二子圖像融合得到。第一子圖像由物理效應(yīng)模擬單元基于第一光刻圖形生成，第二子圖像由神...
  • 本發(fā)明公開(kāi)了一種投影機(jī)鏡頭結(jié)構(gòu)及投影設(shè)備，涉及投影設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，投影機(jī)鏡頭結(jié)構(gòu)包括殼體，透鏡組件以及反射鏡組件，殼體具有進(jìn)光口以及出光口，進(jìn)光口和出光口錯(cuò)開(kāi)設(shè)置，殼體內(nèi)部形成有依次連通的三個(gè)光路通道，每相鄰的兩個(gè)光路通道的延伸方向相交，透鏡...
  • 本發(fā)明公開(kāi)一種銅板顯影機(jī)，涉及膠片顯影技術(shù)領(lǐng)域，包括：顯影機(jī)外殼，內(nèi)部限定出容納腔；旋轉(zhuǎn)操作平臺(tái)設(shè)置于所述容納腔內(nèi)并由驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)；銅板能夠固定在所述旋轉(zhuǎn)操作平臺(tái)上；噴淋機(jī)構(gòu)具有超聲波霧化噴頭，用于向銅板噴淋顯影液或去離子水。與現(xiàn)有技術(shù)...
  • 本發(fā)明提供了一種聚酰亞胺光阻組合物，包括：1 wt%至70 wt%的聚酰亞胺前驅(qū)物；0.1 wt%至10 wt%的光起始劑；1 wt%至10 wt%的酯類(lèi)單體；以及余量溶劑，其中溶劑包括乳酸乙酯及γ戊內(nèi)酯，且乳酸乙酯與γ戊內(nèi)酯的重量比介于1...
  • 本發(fā)明提供了一種時(shí)變?cè)鲆骐娐罚ㄔ鲆婵刂茊?dòng)電路和增益隨時(shí)間恢復(fù)電路，所述增益控制啟動(dòng)電路和所述增益隨時(shí)間恢復(fù)電路電信號(hào)連接，是一種低噪、低功耗、增益連續(xù)變化的時(shí)變?cè)鲆骐娐罚瑫r(shí)電路不受供電電壓的限制，解決了現(xiàn)有主動(dòng)聲吶探測(cè)技術(shù)中在不同頻...
  • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種一體成型組合式新型相機(jī)套，包括前幅正面和后幅背面，前幅正面和后幅背面之間用于相機(jī)的放置，所述前幅正面的正面下方固定安裝有彎型蓋頭，且彎型蓋頭的頂部安裝有連接部，連接部與前幅正面和后幅背面的頂部相貼合，且連接部與后幅背面的...
  • 一種光學(xué)鄰近修正方法，包括：提供初始版圖，所述初始版圖包括若干主圖形；在所述主圖形的外圍生成若干第一輔助圖形，生成中間版圖；基于所述中間版圖獲取圖形密度；根據(jù)所述圖形密度，采用考慮圖形密度的光學(xué)鄰近修正模型進(jìn)行光學(xué)鄰近修正，生成修正版圖。由...
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