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攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
  • 本發明提供一種一體式碳粉盒及電子照相成像設備，一體式碳粉盒包括成像單元和顯影單元，成像單元包括廢粉倉、感光鼓和傳動輪組，感光鼓轉動安裝在廢粉倉上，感光鼓的端部設有感光鼓齒輪，感光鼓齒輪遠離感光鼓的鼓體的一端成型有聯接凸部，顯影單元包括粉倉、...
  • 提供一種在通過切割器切斷片材的情況下，能夠抑制定影部的耐久性下降的圖像形成裝置。控制部(101)使加熱旋轉體(51)或加壓旋轉體(52)旋轉而輸送片材，使排出輥(36、37)旋轉而輸送通過了輥隙部(N)的片材，在片材中的切斷位置到達切割器的...
  • 本發明涉及顯示技術領域，提供了一種提升金屬掩膜版直線度的方法，包括：測量多條樣品掩膜版的多個指定點位的像素位置精度偏差；選擇多個指定點位的X坐標作為自變量，Y坐標及Y向偏差之和作為因變量進行擬合，或者，選擇多個指定點位的Y坐標作為自變量，X...
  • 公開了一種形成圖案的方法和光刻膠膜，該形成圖案的方法包括在襯底上涂覆包含有機錫化合物的半導體光刻膠組成物；干燥和加熱以形成光刻膠膜；以及曝光和顯影該光刻膠膜，其中有機錫化合物具有至少一個包含Sn?C鍵的有機配體和至少一個有機羰氧基，并且光刻...
  • 本發明屬于掩膜版技術領域，具體公開了一種變灰掩膜版、制備方法、應用及基于該變灰掩膜版的光刻系統、光刻方法。所述掩膜版。本發明提供的變灰掩膜版，包括基片，基片上設置有微結構；微結構由若干透過率不完全相同的棱錐陣列組成，且透過率不同的棱錐對應不...
  • 本發明旨在提供一種電子照相用清潔刮板，其具有優異的耐碎裂性且能夠提供優異的清潔性能。該清潔刮板設置有包含聚氨酯的彈性構件和支承所述彈性構件的支承構件，并且通過使所述彈性構件的一部分與移動的被清掃構件的表面接觸來清掃所述被清掃構件的表面。當使...
  • 本發明涉及并行空間光調制器調制器。一種3D投影儀，該投影儀具有兩個光調制器，用于調制來自單個寬帶光源的光，而不會將光損失轉儲為熱量。在實施方式中，光分裂器(例如二向色鏡)用于將一個波長組合分裂到一個光調制器，將另一個波長組合分裂到另一個光調...
  • 本實用新型公開了一種打印機用定影排紙組件，涉及激光打印機技術領域，旨在解決由于紙張材質不同，導致紙張在打印機內移動時，受到的張力不同，在打印材質較差的紙張時，會因為張力過大使紙張斷裂的技術問題，包括具有顯影單元的激光打印機機體，所述激光打印...
  • 本發明公開了一種水平推入在位檢測裝置，通過設置硒鼓裝置、導電彈壓裝置和粉盒裝置，所述導電彈壓裝置包括彈壓頭，所述彈壓頭設置在所述導電彈壓裝置的頂部，深入至所述粉倉槽內部，工作時通過推動把手將粉盒裝置推入硒鼓裝置的粉倉槽中，粉盒裝置推動時擠壓...
  • 本實用新型涉及一種顯影盒，可拆插裝在圖像形成設備中，圖像形成設備中形成有安裝槽，安裝槽中轉動設有感光鼓，圖像形成設備所在的第一側上設置有可轉動的門蓋，顯影盒插放在安裝槽內,對顯影盒施加外力或顯影盒與圖像形成設備相互配合作用，以使顯影盒能夠逐...
  • 抗蝕劑頂涂層組合物和使用抗蝕劑頂涂層組合物形成圖案的方法，抗蝕劑頂涂層組合物包括共聚物和溶劑，共聚物包括由化學式M?1表示的第一結構單元、由化學式M?2表示的第二結構單元、以及由化學式M?3A、化學式M?3B或化學式M?3C中至少一種表示的...
  • 本申請公開了一種粉筒及顯影裝置。實施例的粉筒能夠與設置有顯影輥的顯影盒一起形成顯影裝置，顯影裝置安裝于電子成像設備，電子成像設備包括用于檢測顯影裝置的顯影室中色粉量的檢測部；顯影盒包括具有顯影室的殼體；其中，粉筒包括粉筒本體，安裝于殼體；粉...
  • 本發明公開了一種顯影盒，包括：基座；第一識別件，設置在基座上，第一識別件能夠與成像裝置的檢測機構電連接；開關裝置，設置在基座上；第二識別件，設置在基座上，第二識別件能夠與檢測機構電連接；第一識別件、開關裝置，第二識別件和檢測機構能夠依次回路...
  • 公開了一種半導體光刻膠組合物和使用所述組合物形成圖案的方法，所述半導體光刻膠組合物包括：含Sn有機金屬化合物；由化學式1表示的羧酸化合物；以及溶劑。
  • 本發明提供一種處理盒，可拆卸地安裝到設置有電力部件的電子照相成像設備中，處理盒包括感光鼓、顯影輥以及用于向感光鼓充電的充電部件；處理盒還包括：電力供應件，能夠與電力部件接觸以接收電力，電力供應件能夠向顯影輥供應電力；接地構件，能夠在與顯影輥...
  • 公開了一種半導體光刻膠組合物和使用組合物形成圖案的方法，半導體光刻膠組合物包括含Sn有機金屬化合物、由化學式1表示的羧酸化合物和溶劑。
  • 本實用新型公開一種磁輥導電結構，包括輥體和邊蓋，所述輥體內設置有磁芯，在所述邊蓋上設置有定位柱，所述定位柱插接在所述輥體內，所述邊蓋上固定設置有導電片，所述導電片上設置有延伸片，所述延伸片延伸至所述輥體內且與所述輥體內壁貼合導電。本實用新型...
  • 本公開提供一種掩模版及其制備方法，涉及半導體制造技術領域和光刻技術領域，制備方法包括：在基底上形成依次層疊的掩模吸收層、硬掩蔽層以及光刻膠層；基于掩模版圖對光刻膠層進行曝光及顯影，在光刻膠層中形成目標圖形；以形成有目標圖形的光刻膠層為掩蔽層...
  • 抗蝕劑的干式顯影可使用于例如在高分辨率圖案化中形成圖案化掩模。干式顯影可有利地通過半導體襯底的處理方法來實現，該方法包括：在處理室中將已光圖案化的抗蝕劑提供至半導體襯底上的襯底層上；以及通過以下方式對所述已光圖案化的抗蝕劑進行干式顯影：通過...
  • 本發明提供除電裝置以及介質處理裝置。除電裝置具有：第1除電部件，與被搬送的介質接觸；第2除電部件，在所述第2除電部件與所述第1除電部件之間夾持所述介質；以及電源，對所述第1除電部件以及所述第2除電部件中的至少一方施加電壓，所述第1除電部件以...
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技術分類
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