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五金工具產品及配附件制造技術
  • 一種鍍膜設備及其形成方法、半導體結構的形成方法，鍍膜設備包括：腔體，包括相連接的第一部分和第二部分，第一部分和第二部分閉合后構成密閉腔；設置于腔體底部的載臺，載臺用于放置待鍍膜物料，可沿第一方向和第二方向移動，第一方向和第二方向平行于第二部...
  • 本發明提供一種可用于等離子噴涂的耐高溫石墨烯基吸波涂層粉料、制備方法及應用，涉及電磁波吸收材料領域。所述可用于等離子噴涂的耐高溫石墨烯基吸波涂層粉料的制備方法，包括有以下步驟：制備水滑石粉末、制備水滑石/氧化石墨烯復合微粒、剪切包覆、熱處理...
  • 本實用新型公開了一種氮化硅沉積爐管，包括底座，所述底座的一側固定連接有內管，所述底座的一側固定連接有外管，所述外管的側壁設有流通管，所述外管遠離底座的一端固定連接有端板，所述端板的一側貫穿設有轉動管，所述轉動管位于外管的一端固定連接有內板，...
  • 本發明一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，包括以下步驟：將氧化鋅、氧化錫按照重量比52:48混合加入到氧化鋅總量5?7倍的改性液攪拌改性處理，然后水洗、干燥，得到改性的鋅錫體；向改性的鋅錫體中加入改性的鋅錫體總量10?15%的球...
  • 本申請公開了一種提高金屬膜電學性能的前驅體組合物、金屬膜及方法，前驅體組合物包括：第一濃度的前驅體，第二濃度的摻雜劑和第三濃度的溶劑。本申請通過向前驅體中添加摻雜劑，能夠顯著提升沉積得到的金屬膜的電學性能，其中，電容密度增加了9%，介電常數...
  • 本發明公開了一種鉚螺母的表面鍍鋅工藝及設備，先用石灰、粗糠以及木炭對鉚螺母的表面除油，然后用清水清洗，以及用鹽酸與緩蝕劑的混合液進行酸洗，酸洗完成再次經過清洗后加入到氯化鋅銨溶液中浸泡，然后烘干后送入到鍍鋅設備中進行鍍鋅，鍍鋅完成后快速浸入...
  • 本發明涉及表面鍍膜技術領域，具體涉及一種軸承端面薄膜圖案的制備工裝及方法。該工裝包括轉接板、圖案掩模板、壓板和緊固件，轉接板可拆卸地安裝于薄膜加工樣品臺，轉接板與圖案掩模板之間形成用于放置待鍍軸承的安裝空間，壓板貼合壓設于圖案掩模板遠離轉接...
  • 本申請涉及氧化釔絕緣涂層制備技術領域，且公開了一種應用在PECVD腔體內的碳纖維載板的氧化釔絕緣涂層的制備方法，本方案以下所述的步驟：步驟一：將碳纖維載板進行除污作業；步驟二：將碳纖維載板進行干燥作業；步驟三：將碳纖維載板進行噴涂作業；步驟...
  • 本申請公開了一種基于MXene/ZnIn2S4復合氣敏材料的制備及其陰極陣列涂覆方法，其屬于半導體納米材料與MEMS氣體傳感器制造技術領域，通過MXene表面終端調控實現ZnIn2
  • 本實用新型涉及濺鍍設備技術領域，特別是涉及一種濺鍍上下料設備，包括濺鍍上料緩存機構；濺鍍蓋取治具機構，與所述濺鍍上料緩存機構連接，用于將濺鍍后的產品上的治具取下，并將治具蓋于待濺鍍的產品上；分選打標簽機構，與所述濺鍍蓋取治具機構連接，用于對...
  • 本發明提供了一種PEALD腔體結構，涉及鍍膜設備技術領域。該結構包括外腔體、內腔體、升降系統、加熱載臺、抽氣系統及壓力控制器。內腔體設置于外腔體內部，底部形成適配加熱載臺的開口，升降系統控制加熱載臺與內腔體的連接與分離。內腔體內設置分隔體，...
  • 本發明公開了一種液壓元件用自反應潤滑涂層及其制備方法，包括基體預處理、Cr打底、制備梯度層和摻W類金剛石層等步驟。該涂層結構由Cr底層、Cr/C梯度層、W/C梯度層和W?DLC頂層組成，這種梯度多晶層結構設計使得基體和涂層之間的機械性能過渡...
  • 本發明涉及熱障涂層技術領域，特別涉及一種熱障涂層的制備方法。本發明實施例提供一種熱障涂層的制備方法，包括：將漿料利用離子噴涂工藝噴涂在待保護的基底上，得到具有縱向裂紋的隔熱層；其中，所述縱向裂縫垂直于所述隔熱層，所述縱向裂紋的一端延伸至所述...
  • 本發明涉及塑料鐵絲技術領域，具體為一種鍍鋅鐵絲的生產工藝，包括以下步驟：生產輸送、鐵絲定向移動、鐵絲鍍鋅和鍍鋅液循環。本發明能有效的保證鍍鋅液濃度的均勻性，避免出現鍍鋅液溢流的情況，能有效回收鍍鋅液，還能添加新的鍍鋅液，保證鍍鋅液濃度的均勻...
  • 用于控制基板溫度的方法及設備包括：測量經受沉積處理的基板；分析所述基板的測量以檢測所述基板的缺陷；及基于若檢測到缺陷的所述分析，發送反饋信號以修改使用于在所述沉積處理中控制所述基板的溫度的溫度控制器的溫度控制參數，且若未檢測到缺陷，不發送反...
  • 一種防止損壞下部圖案化結構的基板處理方法包括：通過多次執行第一循環來形成具有一定厚度的第一薄膜，該第一循環包括將第一反應物供應到結構上并吹掃殘留物；以及通過改變具有一定厚度的第一薄膜的化學成分來形成第二薄膜。
  • 公開了用于在表面上沉積氮化硅之前預處理所述表面的方法和系統。示例性方法包含通過將所述表面暴露于由包括氮和氫的一種或多種氣體形成的活性物種來預處理所述表面。預處理的步驟可另外包含將所述表面暴露于包括硅的氣體的步驟。
  • 本申請公開了一種自動化學氣相沉積裝置及其應用。本申請自動化學氣相沉積裝置包括爐體、樣品管、樣品桿、密封件和位移平臺；爐體具有容納樣品管的腔體；密封件用于對爐體和樣品管進行密封，密封件有開口，便于樣品桿穿過，伸入樣品管；樣品桿可拆卸安裝于位移...
  • 本發明涉及實體碳化硅制造領域，尤其涉及實體碳化硅制造工藝，包括有大型反應器、噴氣口、腔體、排氣管線、真空泵、初級尾氣設備、次級尾氣設備、中和水處理系統；本發明安裝60°、120°的分流噴嘴，使基材的沉積均勻，以多管噴嘴形式減少Si氣體種類的...
  • 本發明公開了一種增強鍍釕鉬片及其制備方法，屬于鍍釕鉬片的技術領域。所述制備方法包括：通過磁控濺射的方式，在鉬片表面真空濺射鍍一層厚度為0.1~0.5μm的高純鉬鍍層，獲得鍍鉬鉬片；將鍍鉬鉬片進行氧化酸洗及離子清洗，其后通過氣相沉積的方式，在...
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